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首台拥有自主知识产权精密光刻机问世

2009-05-05

日前，国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩膜（直写式）光刻机在合肥面世。由中国工程院院士张钟华、叶声华带队的专家鉴定组在鉴定后认为，该成果在国际同类产品中处于先进水平，分辨率已经达到亚微米，性能稳定可靠，填补了国内光刻机在该领域的空白。

　　据研发公司负责人介绍，这台光刻机分辨率达到0.65微米以下，同时，自主专利技术的运用极大提高了产能，从这两项关键性能指标来看，已经处于世界同类产品领先水平。该产品的问世也标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面被打破。

　　该产品在兼顾了高产能与高分辨率的同时，极大地降低了使用成本，与国际同类产品相比，其价格不到国外的1/3。

　　据了解，光刻机是生产半导体芯片的最关键设备，目前我国半导体设备业是半导体和集成电路产业链中最薄弱的环节之一。

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