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国内首台无掩膜式光刻机研制成功

2009-05-05

12月25日，合肥经济开发区管委会对外宣布，具有世界领先水平、完全属于自主知识产权的国内第一台无掩膜式(直写式)“光刻机”在合肥研制成功，这标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面被打破。

据介绍，光刻机项目之所以重大高端，是因为它是生产电子芯片的最关键设备，用于制造电子元器件上的集成电路图案。同时，中国是全球集成电路的最大消耗国，据统计所用集成电路占全球的24%以上，但是国产集成电路国内市场自给率却少于10%，因此，光刻机被国家“十一五”发展规划明确定义为重点制造装备。据了解，该无掩膜式(直写式)光刻机分辨率为0.65微米，可应用于半导体行业、生物、医药、光电、太阳能电池、新能源及薄膜电路等不同领域。

据开发该产品的芯硕半导体(中国)有限公司介绍，该项目落户合肥后，从2006年12月开始，只用了一年时间就研发出首台设备。根据规划，此后该公司将进行大规模生产，一期工程将于明年9月份正式完工。

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