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我国亚微米级光刻机有望实现国产

2009-05-05

　国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的直写式光刻机即将于12月底在合肥面世，标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面将被打破。

据悉，由芯硕半导体（合肥）有限公司生产的两台直写式光刻机样机已进入最后的总装调试阶段，其分辨率达到亚微米级，从两个主要的性能指标分辨率和产能考虑，与目前在此领域先进的日本和德国同类产品相比，芯硕的产品处于世界领先水平。

光刻机是半导体设备里最关键的设备之一，每一代半导体技术的发展都是以光刻线宽为代表。但目前在中国，生产用光刻机完全依赖进口，国产品牌的亚微米级光刻机还是空白。芯硕半导体公司生产的直写式光刻机是中国唯一商业化的直写式光刻机技术，具有中国自主知识产权，将为中国光刻机技术的发展奠定坚实基础。

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